Shanghai Xinanna Electronic Technology Co., Ltd. [China]

Detailed Product Description

High removal rate

XAN-LBS1001 slurry for the polishing sapphire 

Advantage: 1. High removal rate (>2mm/min, when the pad is tin or copper)

          2. Good surface quality: smooth, no obvious scratch. 

          3. Easy to be used: fit for the conventional CMP process.

XAN-LBS1201 slurry for the final polishing of sapphire 

Advantage: 1. Good surface quality: surface roughness (RMS) <1nm. 

          2. High removal rate (>14mm/hour)

          3. Easy to be used: fit for the conventional CMP process.